Z laserjem do kompleksnejših čipov

Trenutno so čipi proizvajajo s pomočjo fotolitografskih tehnik, s pomočjo katerih je moč proizvesti strukture, ki so večje od valovne dolžine uporabljene svetlobe. S to težavo so se spopadli znanstveniki iz slavnega inštituta MIT (Massachusetts Institute of Technology) in objavili analizo s precej “razumljivim” naslovom “Breaking the Far-Field Diffraction Limit in Optical Nanopatterning via Repeated Photochemical and Electrochemical Transitions in Photochromic Molecules”.

V bistvu, njihova tehnika omogoča ustvarjanje zapletenih struktur, ki so velikosti 1/8 valovne dolžine uporabljene svetlobe. Učinek znan pod imenom stimulated emission depletion imaging (STED), jim omogoča premagovanje sedanjih omejitev fotolitografskega procesa. Pri uporabi STED-a, znanstveniki izkoriščajo fluorescentne lastnosti materiala, ki ob osvetlitvi z laserskim žarkom oddaja svetlobo. Z nadziranjem moči laserskega žarka je mogoče nato proizvesti tako imenovane “črne točke”, ki so manjše od valovne dolžine laserskega žarka in se lahko uporabljajo kot maske za površino.